高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）技(ji)術參數(shu)：  

Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials（Si,SiNx,SiC,quartz,glass）.Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.  

提(ti)供各種材(cai)料的(de)納米壓印模板（硅(gui)(gui)，氮化(hua)硅(gui)(gui)，碳化(hua)硅(gui)(gui)，石英玻璃）。模板zui大尺(chi)寸：4英寸，特征尺(chi)寸為100nm。對于更小(xiao)的(de)尺(chi)寸，zui小(xiao)的(de)特征尺(chi)寸可以達到(dao)50nm。  

DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers. ; 

提供zui低(di)30nm特征尺(chi)寸的各種(zhong)結構(gou)的電子束刻(ke)蝕服(fu)務(wu)。基(ji)板(ban)：任何導電或者非導電晶片。  

MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.  

各種(zhong)納米(mi)結構（硅，III-V族元素(su)，II-VI族元素(su)以(yi)及聚合(he)物）的微納米(mi)加工。  

高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特點：  

softmoldforthermalnanoimprint熱壓(ya)印(yin)的軟模(mo)板  

quartzmoldforUVnanoimprint紫外壓印的石英(ying)模(mo)板(ban)  

siliconmoldforthermalnanoimprint熱(re)壓印的硅模板