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全(quan)自(zi)動步進(jin)重復式激(ji)光干涉光刻機 VIL 1000納(na)米(mi)光刻系統具有(you)全(quan)自(zi)動光路重構、動態鎖相、高精(jing)度(du)步進(jin)重復曝光等(deng)強大功 能。在放置(zhi)旋涂(tu)好光刻膠(jiao)的(de)(de) 晶圓后，無需任何手動設置(zhi)或調(diao)整，我們的(de)(de)自(zi)動化系統可以在2 cm×2 cm的(de)(de)曝光區(qu)(qu)(qu)域內 （曝光區(qu)(qu)(qu)域還(huan)可定制其他(ta)尺寸及形(xing)狀(zhuang)）實(shi)現納(na)米(mi)尺度(du)的(de)(de)一維(wei)光柵或二維(wei)陣(zhen)列的(de)(de)加工(gong)。所制 備納(na)米(mi)結(jie)構的(de)(de)周期(qi)涵蓋240 nm到(dao)1500 nm的(de)(de)區(qu)(qu)(qu)間范圍，

VIL1000激光(guang)干涉光(guang)刻機 VIL系(xi)列納米圖(tu)形(xing)系(xi)統（激光(guang)干涉光(guang)刻機）具有快(kuai)速可重(zhong)構光(guang)束(shu)傳輸(shu)、主動(dong)圖(tu)形(xing)穩(wen)定(ding)和精確樣品定(ding)位等強大(da)功(gong)能(neng)。該系(xi)統可以通過使用(yong)標(biao)準2cm×2cm正方形(xing)或用(yong)戶定(ding)義形(xing)狀的圖(tu)案場進(jin)行重(zhong)復曝光(guang)，在8英(ying)寸大(da)面(mian)積(ji)上產生(sheng)各種納米結構，例(li)如1D光(guang)柵(zha)線和2D柱/孔(kong)圖(tu)案，周期從240 nm到1500 nm。