VIL1000激光干涉光刻機

產品簡介

VIL1000激光干涉光刻機
VIL系列納米圖形(xing)(xing)系統（激(ji)光干涉光刻機）具有快速可重構(gou)光束(shu)傳輸、主動圖形(xing)(xing)穩定和(he)精確樣品定位等強大功能。該系統可以通過使(shi)用標準2cm×2cm正方形(xing)(xing)或用戶(hu)定義(yi)形(xing)(xing)狀(zhuang)的(de)圖案場進行(xing)重復曝光，在8英寸大面積(ji)上產生各種(zhong)納米結構(gou)，例(li)如1D光柵線和(he)2D柱(zhu)/孔圖案，周期(qi)從240 nm到1500 nm。

產品型號：

更新時間：2025-09-19

廠商性質：代理商

訪問量：2531

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光刻機

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VIL1000激光干涉光刻機

VIL1000激光干涉光刻機

1、可(ke)實現同一晶圓上不(bu)同納米結構的分區光刻(ke)；

2、制作(zuo)各種一維、二(er)維納米(mi)圖(tu)案；

3、最小線寬低于50nm；

4、與其他(ta)同類設備(bei)的功能對比圖如下：

	電子束直寫	激光直寫(xie)	紫外光刻機	激光干(gan)涉光刻機
設備示例
代表廠商	德國的Raith和Vistec, 日本的JEOL和Elionix	海德堡和Raith	Eulitha	InterLitho
代(dai)表性(xing)產品(pin)型號	Raith EBPG Plus	海(hai)德堡(bao) DWL 66+	Eulitha PhableR 100	VIL1000
主(zhu)要用(yong)途	高(gao)分辨(bian)率掩(yan)模(mo)版制(zhi)造和(he)納米(mi)結(jie)構的制(zhi)備	對分辨率要求(qiu)不高的掩模版制造和納米結構制備	分辨率適中(zhong)的納米結構(gou)制備(bei)	大面積、低成本、高(gao)通量制備高(gao)分辨率周期(qi)性(xing)納(na)米結構，用(yong)于(yu)微納(na)光學(xue)、生(sheng)物芯(xin)片等新興應(ying)用(yong)
刻寫的最(zui)小物(wu)理線寬	<10nm	~300nm	60nm	40nm
價(jia)格和維(wei)護(hu)成本	高	中	中	較低(di)
自(zi)動化程度	全自動	全自動	部(bu)分手動	全自動
設(she)備效率	低	低(di)	高	高
需(xu)要掩模	否(fou)	否	是	否
特(te)征尺寸調(diao)制難度	難，樣品(pin)需要重新刻寫	難，樣品需要重新刻寫	難，需要重新刻寫模板	容易，幾分鐘可(ke)實現