透射電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗口
TEM氮化硅薄膜窗口產品概述：
與X射線用氮化硅窗口類似，透射電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規格。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

TEM氮化硅薄膜窗口

現在SHNTI可以提供透射電鏡（TEM）用氮化硅薄膜窗系列產品，規格如下：
外框尺寸:

• 3 mm x 3 mm （窗口(kou)尺寸(cun)：0.5 mm，薄膜厚度(du)：50 nm）

• 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚(hou)度：50 nm）

• 3 mm x 3 mm （窗(chuang)口(kou)尺寸：1.0 mm，薄膜厚度(du)：100 nm）

• 窗(chuang)口類別：雙縫、九窗(chuang)格（3×3陣列）

邊框厚度： 200μm、381μm。
Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm
SHNTI也可以為用戶定制產品（30-200nm），但要100片起訂。
本產品為一次性產品，SHNTI不建議用戶重復使用，本產品不能進行超聲清洗，適合化學清洗、輝光放電和等離子體清洗。

技術(shu)指標：
表面(mian)平(ping)整度：
我(wo)們認為薄膜與其下的硅(gui)片同樣平整， TEM用氮化硅薄膜(mo)窗(chuang)口(kou)的表(biao)面粗糙度為：0.6-2nm。*適用于TEM表征。

親水性(xing)
該窗格呈疏水性，如果(guo)樣(yang)品取自水懸浮液，懸浮微粒則(ze)不能均(jun)勻地分布(bu)在薄(bo)(bo)膜(mo)上。用等(deng)離子蝕刻(ke)機對薄(bo)(bo)膜(mo)進(jin)(jin)行親水處理，可(ke)暫時獲得親水效果(guo)。雖然沒(mei)有對其(qi)使用壽(shou)命進(jin)(jin)行過測試，但預期(qi)可(ke)以獲得與同樣(yang)處理的鍍(du)碳TEM網格(ge)相(xiang)當(dang)的壽(shou)命。我們(men)可(ke)(ke)以生產此種蝕刻窗(chuang)格(ge)，但(dan)無法保(bao)證(zheng)其(qi)使用壽(shou)命。如(ru)果實驗室有蝕刻工具也可(ke)(ke)對其(qi)進行相(xiang)應(ying)的處理提高其(qi)親水性能。



溫度(du)特(te)性：
氮化硅薄膜(mo)窗口產(chan)品是(shi)耐高溫產(chan)品，能夠承受1000度高溫，非常適合(he)在其(qi)表面(mian)利用(yong)CVD方法(fa)生長(chang)各種(zhong)納米材料。

化(hua)學特性(xing)：
氮(dan)化硅薄膜(mo)窗口是惰性襯底。

應(ying)用簡介和優點：
1、 適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的(de)對同(tong)一區域的(de)交叉配(pei)對表(biao)征(zheng)。
2、 大窗(chuang)口尺寸(cun)，適合TEM大角度(du)轉(zhuan)動(dong)觀察。
3、 無碳、無雜質的清潔TEM觀測平(ping)臺。
4、 背景(jing)氮(dan)化硅(gui)無(wu)定形、無(wu)特征(zheng)。
5、 耐高溫、惰性襯(chen)底(di)，適應各(ge)種聚合(he)物、納米(mi)材(cai)料、半導體材(cai)料、光學晶體材(cai)料和功能(neng)薄膜材(cai)料的制備環(huan)境，（薄膜直接沉積在窗(chuang)口上）。
6、 生物和(he)濕細胞樣本的理想承載體(ti)。特(te)別是在等離子(zi)體(ti)處理后，窗口具有(you)很好的親水性。。
7、 耐高溫、惰性襯底(di)，也可以用于化學反應(ying)和退(tui)火(huo)效應(ying)的原位表征。
8、 適合做為膠體(ti)、氣凝膠、有機材料和(he)納(na)米顆粒等的表征(zheng)實驗承載(zai)體(ti)。

氮(dan)化硅薄膜應用范圍非(fei)常廣，甚至有時使不可(ke)能變為可(ke)能，但(dan)所有應用都有無氮(dan)要求(qiu)（因樣本中有氮(dan)存在）：
惰性基片可用(yong)于高溫(wen)環(huan)境下(xia)，通過TEM、SEM或AFM（某些情況下(xia)）對(dui)反(fan)應(ying)進(jin)行動態觀察。
作(zuo)為耐用基片，首先(xian)在TEM下，然后在SEM下對同(tong)一區域進行“匹配(pei)"。
作為耐(nai)用匹(pi)配基片(pian)，對AFM和TEM圖像(xiang)進行比(bi)較(jiao)。
聚(ju)焦離子束（FIB）樣本的裝載，我們*使用多孔薄膜，而非不間斷(duan)薄膜。


許多研究納米微(wei)粒，特別是含氮納米微(wei)粒的人員發現(xian)此種薄(bo)膜窗格(ge)在他們實驗中*。氣凝膠和(he)干(gan)凝膠的基(ji)本(ben)組成微(wei)粒尺寸極小，此項研究人員也同(tong)樣會發現(xian)氧(yang)化硅薄(bo)膜窗格(ge)的價值。
優(you)點(dian)：
• SEM應用中，薄膜背景不呈(cheng)現任何結構和特點。
• x-射線(xian)顯微鏡(jing)中，裝載多個分析樣的*方法(fa)。
• 無氮
高(gao)溫(wen)應(ying)用，氮(dan)化硅薄膜(mo)在1000°C高溫下仍能(neng)保持穩定的性能(neng)。

使用前(qian)清潔：
氮(dan)化硅(gui)薄膜窗格在(zai)使(shi)用前不需(xu)進行額外(wai)清潔。有時(shi)薄膜表面邊(bian)角處會散落(luo)個別氧化物或(huo)氮(dan)化物碎片(pian)。由(you)于單片(pian)網格需(xu)要從整(zheng)個硅(gui)片(pian)中分離，并對(dui)外(wai)框進行打磨，因此這(zhe)(zhe)些微(wei)小(xiao)碎片(pian)不可(ke)避(bi)免。盡管(guan)如此，我(wo)們(men)相信這(zhe)(zhe)些碎片(pian)微(wei)粒不會對(dui)您的實驗產生任(ren)何(he)影(ying)響。

如(ru)果(guo)用戶確實需要對這(zhe)些碎(sui)片進行(xing)清理，我們建議用H2SO4 : H2O2 （1:1）溶(rong)液清潔有機物，用H2O:HCl: H2O2 （5:3:3）溶(rong)液清潔金屬。

通常不能用超聲波(bo)(bo)清(qing)洗器清(qing)潔薄膜，因超聲波(bo)(bo)可能使其(qi)粉碎性破裂。