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iNano高精度(du)臺式(shi)納(na)米(mi)(mi)壓痕儀是一種緊湊，用(yong)戶友好的納(na)米(mi)(mi)機(ji)械測量系統，設計用(yong)于硬涂層，薄(bo)(bo)膜和少量材(cai)料。該系統旨在進行準確，可重復的納(na)米(mi)(mi)級(ji)機(ji)械測試(shi)(shi)，包(bao)括(kuo)壓痕，硬度(du)，劃(hua)痕和通(tong)用(yong)納(na)米(mi)(mi)級(ji)測試(shi)(shi)。iNano具有很大的力和位(wei)移動態范圍，可以施加高達50mN的力來測試(shi)(shi)薄(bo)(bo)膜和軟材(cai)料。模(mo)塊化選項可滿足(zu)多種應用(yong)，包(bao)括(kuo)材(cai)料特(te)性(xing)圖和高溫測試(shi)(shi)。

Nano Indenter® G200原位納(na)(na)(na)米(mi)力(li)學(xue)測(ce)(ce)試(shi)系統是一種(zhong)準確，靈活(huo)，使用方便的納(na)(na)(na)米(mi)級機(ji)械測(ce)(ce)試(shi)儀器。 G200 測(ce)(ce)量(liang)楊(yang)氏模(mo)量(liang)和硬度(du)，包括從納(na)(na)(na)米(mi)到毫米(mi)的六個數量(liang)級的形變(bian)測(ce)(ce)量(liang)。 可(ke)測(ce)(ce)量(liang)聚合物，凝膠和生物組織的復(fu)數模(mo)量(liang)以及薄(bo)金屬膜的蠕變(bian)響應（應變(bian)率靈敏度(du)）。 模(mo)塊化適用各(ge)種(zhong)應用：頻(pin)率特定(ding)測(ce)(ce)試(shi)，定(ding)量(liang)刮擦和磨損測(ce)(ce)試(shi)，集成的基于探(tan)頭的成像，高(gao)(gao)溫納(na)(na)(na)米(mi)壓痕測(ce)(ce)試(shi)，擴展負載容(rong)量(liang)高(gao)(gao)達10N 和自定(ding)義測(ce)(ce)試(shi)。

微納米壓痕儀（高溫(wen)(wen)(wen)）通(tong)過(guo)在(zai)真(zhen)空(kong)環境(jing)中單加熱jian端(duan)和(he)樣(yang)品來測(ce)量(liang)高溫(wen)(wen)(wen)下的硬度(du)、模(mo)量(liang)和(he)硬度(du)。INSEM®HT與掃描電子顯微鏡（SEM）和(he)聚(ju)焦離子束（FIB）或立(li)真(zhen)空(kong)室兼容。附(fu)帶的InView軟件可以協助開(kai)發新的實驗(yan)。科學出(chu)版物表明，InSEM HT結果與傳統大型(xing)高溫(wen)(wen)(wen)試驗(yan)數據吻合(he)。廣泛的溫(wen)(wen)(wen)度(du)范(fan)圍使(shi)InSEM HT成為開(kai)發研究材料的一(yi)個非常有(you)價(jia)值的工具。

TNI LF-2000原(yuan)位(wei)自(zi)動(dong)納(na)(na)米(mi)操作系統是目前市面(mian)上基于SEM電鏡(jing)下使用的高自(zi)動(dong)化程度的納(na)(na)米(mi)操作系統，也是一種(zhong)能夠在SEM電鏡(jing)下提供可(ke)重復定位(wei)、低漂(piao)移、閉環運動(dong)控(kong)制定位(wei)的納(na)(na)米(mi)操作系統。LF-2000可(ke)以在原(yuan)位(wei)條件(jian)下進行(xing)力(li)學(xue)測(ce)量、電學(xue)測(ce)試、納(na)(na)米(mi)物體(ti)拾取(qu)和裝配、制作微(wei)納(na)(na)米(mi)器(qi)件(jian)、納(na)(na)米(mi)電子(zi)器(qi)件(jian)電學(xue)測(ce)量等(deng)。

FT-NMT04納米力(li)學性能(neng)測(ce)試系統是一種(zhong)多(duo)功能(neng)的原位掃描電鏡/光纖納米壓頭，能(neng)夠準確量化材料在微觀(guan)和納米尺(chi)度上的力(li)學行為(wei)。