Novascan紫外臭氧清洗儀 PSD-UV系列

PSD系(xi)列產(chan)品是數字控制的(de)臺(tai)式清(qing)(qing)洗設備，可(ke)以提(ti)供(gong)4×4英(ying)寸(cun)(cun)至12×16英(ying)寸(cun)(cun)的(de)清(qing)(qing)洗尺(chi)寸(cun)(cun)。設備配(pei)備一個(ge)帶反射罩(zhao)的(de)高強度(du)UV格柵燈盤, 和(he)可(ke)調節(jie)高度(du)的(de)樣(yang)品臺(tai)，用(yong)于優化樣(yang)品位置(zhi)和(he)清(qing)(qing)洗效果。4英(ying)寸(cun)(cun)或者更大尺(chi)寸(cun)(cun)的(de)系(xi)統具有進出(chu)氣(qi)接口。該系(xi)統由一個(ge)方便的(de)預設置(zhi)控制器控制，非(fei)常容易操(cao)作(zuo)。

•預設置(zhi)的數字控(kong)制器
•方便簡單(dan)的兩按鍵操作                                                  

•自動工作(zuo)：15.30.60.120分(fen)鐘
•工(gong)作進程可以在任何(he)時候手工(gong)終止
•系統不能提(ti)供(gong)加熱盤選(xuan)項
•經濟實用(yong)的(de)設計使(shi)得PSD系列成(cheng)為(wei)受歡迎的(de)選(xuan)擇

•容(rong)易(yi)安裝和使(shi)用

--

•可編(bian)程數字控(kong)制器
•數字顯示(shi)倒計時
•輕松升級到熱盤(pan)選(xuan)項
•可(ke)執行暫(zan)停和終止指令
•內部存(cun)儲器(qi)用于記(ji)錄之(zhi)前的參數設(she)置
—— 一個強大的系統，提供了增強的進(jin)程控制！

電 源：100.120.220.240VAC.50-60周期。
樣(yang)品(pin)高度(du)：所有(you)系統都配(pei)置(zhi)(zhi)可調(diao)節高度(du)的樣(yang)品(pin)臺，調(diao)節燈(deng)與樣(yang)品(pin)之間的間距，并帶位置(zhi)(zhi)鎖定，標準樣(yang)品(pin)臺尺寸為(wei)UV格(ge)柵燈(deng)大小或更大。
UV格柵燈(deng)：產生臭氧的低壓汞格柵燈(deng)，帶反(fan)射罩(zhao)。燈(deng)管壽命(ming)大約為5000小時。
UV反(fan)(fan)(fan)射(she)罩(zhao)：UV反(fan)(fan)(fan)射(she)罩(zhao)一(yi)般比(bi)UV格(ge)柵燈(deng)大(da)一(yi)英(ying)寸(cun)。比(bi)如4×4英(ying)寸(cun)燈(deng)管反(fan)(fan)(fan)射(she)罩(zhao)尺寸(cun)是5×5英(ying)寸(cun)。
樣(yang)品放(fang)置：打開清洗(xi)腔上蓋，露出樣(yang)品臺，允許360度裝入樣(yang)品。
安全(quan)裝置：當清洗腔打開時(shi)，系統安全(quan)鎖會關掉UV燈(deng)。
進出氣口：標準(zhun)配(pei)置2個(ge)氣接口，可選更多。（PSD-UV3為選項）
真空反應腔：選項客戶化(hua)定制，鋁或石英材料。

臭(chou)氧(yang)中(zhong)(zhong)和器：中(zhong)(zhong)和器和泵用于臭(chou)氧(yang)排除。（PSD和PSDP選項）

PSD系列產品(pin)通過產生(sheng)185nm和254nm高強度UV光分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)有機分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)（污染物(wu)(wu)）。185nm的(de)(de)光可以將氧(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)O2轉(zhuan)變(bian)成活性的(de)(de)O3臭(chou)氧(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)。254nm的(de)(de)光同(tong)(tong)時激發表面的(de)(de)有機分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)，使其更容易被臭(chou)氧(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)吸(xi)收(shou)并(bing)分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)。由于(yu)臭(chou)氧(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)存(cun)在(zai)時間短并(bing)且同(tong)(tong)時也被254nm光分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)，樣品(pin)臺可以調節樣品(pin)到燈(deng)管的(de)(de)距離來優化性能。PSD和PSDP分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)有機污染物(wu)(wu)，然后形成CO2和H2O蒸(zheng)氣，同(tong)(tong)時也將臭(chou)氧(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)轉(zhuan)變(bian)成氧(yang)(yang)分(fen)(fen)(fen)子(zi)(zi)(zi)。

產品型號(hao)尺寸：

產品應用：

基(ji)體材料(liao)：硅、砷(shen)化鎵、玻(bo)璃(li)、石(shi)英(ying)、云(yun)母、藍(lan)寶石(shi)、金屬、陶瓷、聚合物、光阻

應用范圍：

•AFM探(tan)針(zhen)清洗(xi)/尖削(xue)

•半導(dao)體表面氧化(hua)和準(zhun)備(bei)

•光學鏡片清(qing)洗(xi)

•改善表面潤濕性能

•提高油漆/涂(tu)料/膠水/粘合劑的附著(zhu)力

•石英(ying)和陶瓷表面清洗

•薄膜沉積的(de)準備

•紫外固化

•表(biao)面圖形化(hua)

•臭(chou)氧腐蝕