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納米壓印
Imprint Nano納米壓印
Imprint Nano納米(mi)壓(ya)印

產品簡介
納米壓(ya)(ya)(ya)印(yin)的(de)(de)技術與工(gong)(gong)藝特點(dian),*性地(di)設(she)計和制(zhi)備(bei)工(gong)(gong)作(zuo)于低(di)真空環境下,結合(he)正負壓(ya)(ya)(ya)可控(kong)(kong)(kong)調(diao)節并(bing)利(li)用壓(ya)(ya)(ya)縮(suo)空氣(qi)作(zuo)為(wei)壓(ya)(ya)(ya)印(yin)驅動(dong)力的(de)(de),通過(guo)壓(ya)(ya)(ya)力傳(chuan)導裝置(zhi)(zhi)、緩(huan)沖與勻(yun)壓(ya)(ya)(ya)、壓(ya)(ya)(ya)力調(diao)節控(kong)(kong)(kong)制(zhi)裝置(zhi)(zhi)等(deng)手(shou)段實現平穩可靠可控(kong)(kong)(kong)的(de)(de)壓(ya)(ya)(ya)印(yin)過(guo)程,借助于多(duo)種靈活的(de)(de)自動(dong)調(diao)節裝置(zhi)(zhi)的(de)(de)巧妙設(she)計與運用,實現壓(ya)(ya)(ya)印(yin)中的(de)(de)自動(dong)找平調(diao)控(kong)(kong)(kong),以(yi)保證模板納米圖案均勻(yun)精確的(de)(de)大面積復制(zhi)轉(zhuan)移。
product
產品分類主要特點:
該(gai)納(na)米壓(ya)(ya)(ya)印機(ji)利用紫外(wai)曝光(guang)或者熱(re)壓(ya)(ya)(ya)固(gu)化實(shi)(shi)現壓(ya)(ya)(ya)印圖案(an)在(zai)壓(ya)(ya)(ya)印高分子膠層中的復制(zhi),并通過各項功能與過程(cheng)參量(liang)的優化與篩(shai)選,通過遠程(cheng)PLC控制(zhi)系統(tong)結合觸摸屏(ping)單(dan)元,實(shi)(shi)現納(na)米壓(ya)(ya)(ya)印全過程(cheng)的實(shi)(shi)時監控與全自動(dong)化控制(zhi)。
技術參數:
YPL-NIL-SI400納米壓印系統:
溫度范圍從室溫到250攝氏度;
壓力范圍從0到300個PSI(對于4英寸晶元);
紫外曝光系統;
真空范圍從1個標準大氣壓到0.1帕;
水冷系統;
樣品尺寸直徑zui大4英寸;
PLC遠程控制,帶觸摸屏;
手動裝載樣品和模板;
自帶機器控制軟件;
在軟件控制下可實現自動增加和釋放壓力;
可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統的納米壓印機。
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